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與真空蒸度不同，濺射是利用高能離子碰撞靶材，使之以原子、分子、離子的形成飛出，從而在基板上成膜。這種制模的方法是在我們玻璃瓶廠中在普及而且被工業(yè)化生產的最常用的方法。
所謂濺射的現象是由Grove在放電管內壁面上發(fā)現陰極上A1的附著現象后發(fā)現了濺射現象。高能離子（或中性離子）與靶材產生彈性碰撞，靶材表面的離子吸收了這一動量，其后與周圍的離子進一步碰撞，其結果切斷了靶材表面原子間相連的鍵，是原子表面飛出，產生了濺射。
濺射中引起的各種效應對玻璃瓶成膜濺射有效的是二次電子發(fā)射，玻璃瓶陰極（靶材）濺射、氣體解析分解，對陰極的加熱、院子在布局的擴散、晶格變化及離子注入。
二次電子數與入射正粒子數目相比r成為玻璃瓶的二次電子發(fā)射系數，其值大小受靶材性質、正離子質量及電離電位和他的動量大小的影響。當正粒子能量達到幾十至幾百電子伏時r值在玻璃瓶公司幾百分之一只幾十分之一之間。
正離子碰撞靶材時會將其加熱，其能量的75%轉變?yōu)闊?，由此靶材需要做良好的冷卻，以免靶材的分解乃至溶化。
一般玻璃瓶廠真空蒸度中由蒸發(fā)源飛出原子的能量為0.1ev，而靶材中飛濺出的原子能量要比真空蒸度源飛出原子能量要大1~2個數量級，約為5~10eV，每個單位時間內有濺射速度R，R值與入射正離子密度與濺射系數值積成正比。
